万瑞公司低温真空泵应用技术取得新突破

近日，万瑞公司低温真空泵应用技术取得新突破，公司ICP250新型低温真空泵产品经过离子注入机工艺初步验证测试，满足工艺需求。
面向集成电路高端制造装备应用是低温真空泵应用的重点和难点，近年来，万瑞公司始终在这一领域不懈努力、刻苦攻关。2014年开始，万瑞公司独立承担科技部02专项国产集成电路装备零部件量产应用工程的低温真空泵项目，2018年完成专项验收。通过持续的技术研发、技术攻关，突破了诸多核心关键技术，开发出针对集成电路PVD应用的集成智能控制系统的一拖多低温真空泵组，产品整体技术状态达到国外同类产品先进水平，实现了自主可控和国产化替代。

2019年，万瑞公司在已有02专项成果基础上，开始围绕集成电路核心装备离子注入机需求，研制出了新的ICP250型低温真空泵产品，产品技术取得又一重要突破，对氢气抽气速率和容量提升了50%以上，分别达到6000L/s和24，其极限真空度优于3×10-7Pa，具备智能化自动再生控制和温度精确控制功能。
近期，该型低温真空泵产品应用于离子注入机工艺测试，并已通过了初步验证测试，满足工艺需求，技术指标达到国外同类产品先进水平。

国庆前夕，万瑞公司的新型智能化低温真空泵产品亮相2019世界制造业大会，在高端制造展区进行了展示，吸引了众多参观者的关注，安徽新闻联播、新浪网、真空技术与设备网等媒体纷纷给予报道。万瑞公司将再接再厉，为中国集成电路制造核心装备国产化做出应有贡献。